Курсы
Лекторы
Школьникам
О проекте
Войти
Главная
/
Курсы
/
Химические и электрохимические методы формирования наночастиц
/
Лекция 10. Химическое осаждение из пара
Основы метода CVD
x 1.00
Химия
Химические и электрохимические методы формирования наночастиц
Лекция 10. Химическое осаждение из пара
Румянцева
Марина Николаевна
Предыдущая лекция
Следующая лекция
00:19
Основы метода CVD
19:02
Кинетика формирования продукта – стадии процесса
26:19
Используемые реакции и прекурсоры
37:06
Вещества, получаемые методом CVD
47:01
Усиленный плазмой CVD. CVD с горячей нитью. CVD с лазером
54:05
Металлорганический CVD
59:32
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
1:10:04
CVD с участием аэрозоля. Метод пиролиза аэрозоля «Pyrosol»
1:20:35
Преимущества и недостатки метода CVD
Курсы
Лекторы
Школьникам
О проекте
Контакты
Свяжитесь с нами
Отправить
2025 МГУ имени М.В. Ломоносова
Условия использования сайта
Сведения об образовательной организации
Нашли ошибку?
